Hexachlordisilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der chlorierten Silane.
| Strukturformel | ||||||||||
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| Allgemeines | ||||||||||
| Name | Hexachlordisilan | |||||||||
| Andere Namen |
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| Summenformel | (SiCl3)2 | |||||||||
| Kurzbeschreibung | farblose Flüssigkeit | |||||||||
| Externe Identifikatoren/Datenbanken | ||||||||||
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| Eigenschaften | ||||||||||
| Molare Masse | 268,89 g·mol−1 | |||||||||
| Aggregatzustand | flüssig | |||||||||
| Dichte | 1,562 g·cm−3 (25 °C) | |||||||||
| Schmelzpunkt | 2,5 °C | |||||||||
| Siedepunkt | 144–145,5 °C | |||||||||
| Brechungsindex | 1,475 (20 °C) | |||||||||
| Sicherheitshinweise | ||||||||||
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| Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen. Brechungsindex: Na-D-Linie, 20 °C |
Gewinnung und Darstellung Bearbeiten
Hexachlordisilan kann (wie alle Perchlorsilane SinCl2n+2 mit n = 2-6) durch Reaktion von Calciumsilicid mit Chlor bei 230 bis 250 °C gewonnen werden.
Ebenfalls möglich ist die Darstellung durch Reaktion von Siliciumdichlorid oder Silicium mit Chlor.
Eigenschaften Bearbeiten
Hexachlordisilan ist eine farblose, an Luft rauchende, hydrolyseempfindliche klare Flüssigkeit.
Verwendung Bearbeiten
Ultrahochreines Hexachlordisilan wird in der Halbleiterindustrie für die chemische Gasphasenabscheidung von siliciumhaltigen funktionellen Schichten, bei sehr niedrigen Temperaturen, eingesetzt. Anlagen zur Herstellung stehen zum Beispiel im badischen Rheinfelden.
Einzelnachweise Bearbeiten
- ↑ Datenblatt Hexachlorodisilane, 96% bei Sigma-Aldrich, abgerufen am 4. Januar 2014 (PDF).
- ↑ Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, ISBN 3-432-02328-6, S. 669.
- Spezialchemie: Bau einer Spezialchemie-Anlage für Elektronikchips gestartet - Evonik Industries - Spezialchemie, abgerufen am 5. Januar 2014.