www.wikidata.de-de.nina.az
Elektronenruckstreubeugung EBSD nach engl Electron backscatter diffraction ist eine Messverfahren mit dessen Hilfe das kristalline Gefuge eines Werkstoffs analysiert werden kann 1 EBSD Systeme werden in Rasterelektronenmikroskopen eingesetzt Kikuchi Pattern Inhaltsverzeichnis 1 Funktionsweise 2 Indizierung 3 Probenpraparation 4 Siehe auch 5 Weblinks 6 Literatur 7 EinzelnachweiseFunktionsweise BearbeitenDie einfallenden Primarelektronenen werden inelastisch an den Atomen der Probe gestreut und erzeugen so ein Volumen divergenter Quellen das je nach mittlerer Ordnungszahl der Phase bis zu einigen hundert Nanometern dick sein kann Die Informationstiefe eines untergrundkorrigierten EBSD Musters Kikuchi Pattern ist mit einigen zehn Nanometern dagegen deutlich geringer Zur Erhohung der Elektronenruckstreuung Verkurzung der Messzeit wird die Probenoberflache bei der Messung ublicherweise 70 aus der Horizontalen gekippt sodass der Elektronenstrahl mit einem Winkel von 20 zur Oberflache einfallt Das verursacht eine ca dreimal so schlechte lokale Auflosung senkrecht zur Kippachse Ist fur ruckgestreute Elektronen die Bragg Bedingung erfullt kommt es zu konstruktiver Interferenz Fur eine Gitterebene folgt daraus ein Kossel Kegel doppelter Kreiskegel dessen Kegelachse senkrecht auf beiden Seiten der beugenden Gitterebene steht Der Braggwinkel als Erganzungswinkel zum Offnungswinkel des Kegels ist bei sichtbaren Kosselkegeln praktisch immer deutlich unter 5 Die auf eine Detektorebene projizierten Kikuchi Bander Hyperbeln entsprechen daher Breiten die den doppelten Braggwinkel beschreiben Das Zentrum eines Bandes beschreibt daher immer die Projektion einer beugenden Gitterebene Ob eine Gitterebene letztendlich ein sichtbares Kikuchi Band liefert oder nicht hangt allein von der Kristallstruktur der Phase ab d h von der periodischen Anordnung der Atome im Kristall Diese muss bekannt sein da nur damit intensitatsstarke Kikuchi Bander und damit deren verursachende Gitterebenen zugeordnet werden konnen Uber die ebenfalls erforderlichen Gitterkonstanten a b c eigentlich nur deren Verhaltnisse a b c und a b g sind die Raumwinkel zwischen den stark beugenden Gitterebenen verfugbar Sie werden mit denen durch die Kikuchi Bander und dem Projektionszentrum experimentell abgeleiteten Ebenen verglichen und dienen so der Indizierung der Gitterebenen aus der automatisch die Orientierung des beugenen Kristalls folgt 2 3 4 nbsp EBSD Map der Korner eines PolykristallsDie Nutzung der hohen ortlichen Auflosung von Elektronenmikroskopen 10 50 nm ermoglicht eine ortsaufgeloste Kartographierung Mapping der Orientierung bzw beugender Phasen in kristallinen Gefugen Dabei lassen sich deutlich unterschiedliche Phasen leicht voneinander trennen aber auch Klein bzw Grosswinkelkorngrenzen charakterisieren Entsprechende Software vorausgesetzt lassen sich aber auch lokale Spannungen in der Mikrostruktur nachweisen Strain Analyse oder sogar unbekannte Phasen charakterisieren CALM 5 1 Als kristallographische Textur wird die Summe von Orientierungen bzw deren Verteilung bezeichnet Die Orientierungskarten Maps werden zur Beschreibung des Gefuges oder der Kornmorphologie verwendet Die Darstellung kombiniert dabei die ermittelte Kornorientierung mit der zugewiesenen Ort aber auch die Beugungsqualitat Scharfe oder die Indizierungszuverlassigkeit confidenz index band mismatch mean angular deviation Zusatzlich lasst sich auch noch die lokal ermittelte chemische Zusammensetzung berucksichtigen die die Trennung von Phasen ermoglicht bei denen die Gitterkonstanten sehr ahnlich ausfallen und daher nicht zuverlassig getrennt werden konnen Indizierung Bearbeiten nbsp Dieser Artikel oder nachfolgende Abschnitt ist nicht hinreichend mit Belegen beispielsweise Einzelnachweisen ausgestattet Angaben ohne ausreichenden Beleg konnten demnachst entfernt werden Bitte hilf Wikipedia indem du die Angaben recherchierst und gute Belege einfugst nbsp Kikuchi Linienpaare bis hinunter zu 1 1A fur 300 keV Elektronen in hexagonalem Saphir Al2O3 Die genauen Algorithmen zur Indizierung sind generell unbekannt Alle basieren am Ende bisher aber auf dem Gesetz der Winkelkonstanz Die dabei erzielbaren Geschwindigkeitsunterschiede konnen je nach angewandtem Algorithmus erheblich ausfallen Ubereinstimmend ist dass die Identifikation der Bander durch eine modifizierte Hough Transformation des Beugungsbildes erfolgt 6 Der alteste aber auch langsamste Algorithmus beruht in der Auszahlung erkannten Drillinge die jeweils fur eine mogliche Orientierungslosung stehen Der Quotient aus der Differenz der zwei am haufigsten gefundenen Orientierungslosungen und der Gesamtzahl an Drillingen wird als Konfidenz Index bezeichnet Er wird dann sehr klein wenn entweder die Zahl der Orientierungslosungen selbst sehr klein ist oder wenn zwei Losungen zwar sehr oft gefunden werden aber nicht ermittelt werden kann welche die korrekte ist Probenpraparation BearbeitenGenerell ist festzustellen dass aufgrund der geringen Informationstiefe immer die Gefahr besteht dass die Messung Artefakte der Praparation enthalt Das ist besonders kritisch fur Schlussfolgerungen die auf Fehlorientierungen basieren die an der Detektionsgrenze liegen Die Probe muss naturlich vakuumstabil und weitestgehend elektrisch leitfahig sein um im Elektronenmikroskop untersucht werden zu konnen Die Oberflache muss in mehreren Schritten moglichst topographiearm prapariert werden Um eine korrekte Erstellung der Karten zu gewahrleisten muss darauf geachtet werden das die Probe planparallel ist denn die Referenzflache ist die Ruckseite wahrend die Messflache die Vorderseite der Probe ist Die Grosse der Messflache bestimmt lokale Auflosung und Messzeit 6 Siehe auch BearbeitenElektronenbeugungWeblinks Bearbeitenwww ebsd infoLiteratur BearbeitenJoseph Goldstein et al Scanning Electron Microscopy and X ray microanalysis 690 Seiten Springer New York 2003 3 Auflage ISBN 978 0 306 47292 3F J Humphreys Review Grain and subgrain characterisation by electron backscatter diffraction Journal of Materials Science Volume 36 Number 16 Seiten 3833 bis 3854 2001Einzelnachweise Bearbeiten a b Adam J Schwartz Mukul Kumar Brent L Adams David P Field Electron Backscatter Diffraction in Materials Science Springer Science amp Business Media 2013 ISBN 978 1 4757 3205 4 S 17 eingeschrankte Vorschau in der Google Buchsuche Electron Backscatter Diffraction EBSD pdf 1 2 MB Kristallographisches Institut Albert Ludwigs Universitat Freiburg archiviert vom Original am 6 Marz 2006 abgerufen am 24 Januar 2011 Stephan Hasse Gefuge der Gusseisenlegierungen Structure of cast iron alloys Fachverlag Schiele amp Schoen 2008 ISBN 978 3 7949 0755 7 S 38 eingeschrankte Vorschau in der Google Buchsuche Joseph Goldstein Dale E Newbury David C Joy Charles E Lyman Patrick Echlin Eric Lifshin Linda Sawyer J R Michael Scanning Electron Microscopy and X ray Microanalysis Third Edition Springer Science amp Business Media 2012 ISBN 978 1 4615 0215 9 S 547 eingeschrankte Vorschau in der Google Buchsuche Rozaliya Barabash Gene Ice Strain and Dislocation Gradients from Diffraction Spatially Resolved Local Structure and Defects World Scientific 2014 ISBN 978 1 908979 63 6 S 411 eingeschrankte Vorschau in der Google Buchsuche a b Carter C Barry Transmission electron microscopy a textbook for materials science 2nd ed Auflage Springer New York 2009 ISBN 978 0 387 76501 3 Abgerufen von https de wikipedia org w index php title Elektronenruckstreubeugung amp oldid 229758346