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Halbleiterschutzrecht Halbleiterschutz bzw Topographienschutz ist der Schutz dreidimensionaler Strukturen Topographien v

Halbleiterschutzrecht

Halbleiterschutz bzw. Topographienschutz ist der Schutz dreidimensionaler Strukturen (Topographien) von Halbleitererzeugnissen.

Geschichte Bearbeiten

In den USA wurde ein urheberrechtsähnlicher Schutz der dreidimensionalen Struktur von Halbleitern durch den Semiconductor Chip Protection Act of 1984, SCPA, geschaffen. Das Schutzrecht wird in den USA nicht Topographie genannt, sondern mask work und nicht beim Patentamt, sondern beim United States Copyright Office registriert. Es konnten zwar auch ausländische Anmelder den Schutz des SCPA beanspruchen, dieses Recht sollte aber nur bis zum 8. November 1987 gelten. Die Frist wurde für Anmelder aus der EG bis zum 31. Mai 1988 verlängert.

Nach diesem Zeitpunkt galt der Grundsatz der material reciprocity, das bedeutet Schutz nur auf Gegenseitigkeit, d. h., ausländische Anmelder haben nur dann Zugang zum US-amerikanischen Halbleiterschutzrecht, wenn ihr Heimatland US-Anmeldern auch einen Halbleiterschutz gewährt. Um daher in den USA weiterhin Topographien, „mask works“, schützen zu können war man im Ausland gezwungen, ebenfalls den Schutz von Halbleiterstrukturen gesetzlich zu regeln. Japan machte hierbei den Anfang mit dem Act Concerning the Circuit Layout of a Semiconductor Integrated Circuit of 1985. In der EG sollte durch die Richtlinie über den Rechtsschutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen 87/54/EWG vom Rat der EG im Dezember 1986 verabschiedet, eine Harmonisierung innerhalb der EG erreicht werden.

Am 26. Mai 1989 wurde der Vertrag über den Schutz des geistigen Eigentums im Hinblick auf integrierte Schaltkreise (Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits, IPIC-Übereinkommen, WIPO-Dokument IPIC/DC/46) auf einer diplomatischen Konferenz in Washington angenommen, der aber nur von Ägypten, Bosnien und Herzegowina und Saint Lucia ratifiziert wurde. Jedoch sieht das TRIPS-Übereinkommen über geistiges Eigentum die Anwendung dieses Übereinkommens vor.

Halbleiter-/Topographienschutzgesetze Bearbeiten

Die nationale Umsetzung der Richtlinie 87/54/EWG erfolgt über Halbleiterschutzgesetze und deren Durchführungsbestimmungen:

  • In Deutschland mit dem Gesetz über den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen (Halbleiterschutzgesetz – HalblSchG) und der dazu weiter ergangenen Halbleiterschutzverordnung – HalblSchV.
  • In Österreich mit dem Bundesgesetz über den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen (Halbleiterschutzgesetz – HlSchG) vom 23. Juni 1988, BGBl. 1988/372, geändert durch die Halbleiterschutzgesetz-Novelle 1996 (BGBl. 1996/428; weitere Änderung BGBl. 2001/143), und in der Halbleiterschutz-Verordnung (HlSchV) vom 12. September 1988, BGBl 1988/528 in der Fassung BGBl. 1996/439
  • In der Schweiz gelten das Topographiengesetz vom 9. Oktober 1992 (Systematische Sammlung des Bundesrechts – SR 231.2) und die Topographienverordnung vom 26. April 1993, geändert am 29. November 1993

Literatur Bearbeiten

  • Bernhard Geissler: Halbleiterschutzgesetz/Semiconductor Protection Act. (Textausgabe mit Erläuterungen). Carl Heymanns Verlag, 1988, ISBN 3-452-21203-3.
  • Ernst-Peter Heilein: Die Bedeutung des Rechtsschutzes für integrierte Halbleiterschaltkreise in der Praxis – Prognose und Probleme eines sondergesetzlichen Schutzes. Peter Lang, 2003, ISBN 3-631-39812-3.
  • Thomas Hoeren: Der Schutz von Mikrochips in der Bundesrepublik Deutschland. Kritische Überlegungen zum Halbleiterschutzgesetz vom November 1987. 1989, ISBN 3-89325-015-8.
  • Guido Kucsko: Geistiges Eigentum. Manzsche Verlags- und Universitätsbuchhandlung, Wien 2003, ISBN 3-214-00423-9, S. 988–1006.
  • Leon Radomsky: Sixteen Years After the Passage of the U.S. Semiconductor Chip Protection Act: Is International Protection Working? In: Berkeley Technology Law Journal. Band 15, 2000, S. 1049–1233 (archive.org [PDF; 283 kB; abgerufen am 9. Juni 2009]).
  • Wei Shen: Intellectual Property Protection of Layout Designs on Printed Circuit Boards: From Comparative and Chinese Perspectives, IIC 2014, 6.
  • Nicolas von Werdt: Ausgewählte Probleme zum Topographienschutz von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen. (Dissertation, Zürich, 1991) Schulthess Juristische Medien, 1991, ISBN 3-7255-2933-7.

Einzelnachweise Bearbeiten

  1. Vergleiche Artikel „mask work“ in der englischen Wikipedia mask work
  2. Richtlinie 87/54/EWG (PDF)
  3. Halbleiterschutzgesetz, ris.bka
  4. BGBl. Nr. 428/1996: Halbleiterschutzgesetz-Novelle 1996
  5. Halbleiterschutz-Verordnung, ris.bka
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Veröffentlichungsdatum:
Halbleiterschutz bzw Topographienschutz ist der Schutz dreidimensionaler Strukturen Topographien von Halbleitererzeugnissen Inhaltsverzeichnis 1 Geschichte 2 Halbleiter Topographienschutzgesetze 3 Literatur 4 EinzelnachweiseGeschichte BearbeitenIn den USA wurde ein urheberrechtsahnlicher Schutz der dreidimensionalen Struktur von Halbleitern durch den Semiconductor Chip Protection Act of 1984 SCPA geschaffen Das Schutzrecht wird in den USA nicht Topographie genannt sondern mask work 1 und nicht beim Patentamt sondern beim United States Copyright Office registriert Es konnten zwar auch auslandische Anmelder den Schutz des SCPA beanspruchen dieses Recht sollte aber nur bis zum 8 November 1987 gelten Die Frist wurde fur Anmelder aus der EG bis zum 31 Mai 1988 verlangert Nach diesem Zeitpunkt galt der Grundsatz der material reciprocity das bedeutet Schutz nur auf Gegenseitigkeit d h auslandische Anmelder haben nur dann Zugang zum US amerikanischen Halbleiterschutzrecht wenn ihr Heimatland US Anmeldern auch einen Halbleiterschutz gewahrt Um daher in den USA weiterhin Topographien mask works schutzen zu konnen war man im Ausland gezwungen ebenfalls den Schutz von Halbleiterstrukturen gesetzlich zu regeln Japan machte hierbei den Anfang mit dem Act Concerning the Circuit Layout of a Semiconductor Integrated Circuit of 1985 In der EG sollte durch die Richtlinie uber den Rechtsschutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen 87 54 EWG 2 vom Rat der EG im Dezember 1986 verabschiedet eine Harmonisierung innerhalb der EG erreicht werden Am 26 Mai 1989 wurde der Vertrag uber den Schutz des geistigen Eigentums im Hinblick auf integrierte Schaltkreise Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits IPIC Ubereinkommen WIPO Dokument IPIC DC 46 auf einer diplomatischen Konferenz in Washington angenommen der aber nur von Agypten Bosnien und Herzegowina und Saint Lucia ratifiziert wurde Jedoch sieht das TRIPS Ubereinkommen uber geistiges Eigentum die Anwendung dieses Ubereinkommens vor Halbleiter Topographienschutzgesetze BearbeitenDie nationale Umsetzung der Richtlinie 87 54 EWG erfolgt uber Halbleiterschutzgesetze und deren Durchfuhrungsbestimmungen In Deutschland mit dem Gesetz uber den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen Halbleiterschutzgesetz HalblSchG und der dazu weiter ergangenen Halbleiterschutzverordnung HalblSchV In Osterreich mit dem Bundesgesetz uber den Schutz der Topographien von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen Halbleiterschutzgesetz HlSchG vom 23 Juni 1988 BGBl 1988 372 3 geandert durch die Halbleiterschutzgesetz Novelle 1996 BGBl 1996 428 weitere Anderung BGBl 2001 143 4 und in der Halbleiterschutz Verordnung HlSchV vom 12 September 1988 BGBl 1988 528 in der Fassung BGBl 1996 439 5 In der Schweiz gelten das Topographiengesetz vom 9 Oktober 1992 Systematische Sammlung des Bundesrechts SR 231 2 und die Topographienverordnung vom 26 April 1993 geandert am 29 November 1993Literatur BearbeitenBernhard Geissler Halbleiterschutzgesetz Semiconductor Protection Act Textausgabe mit Erlauterungen Carl Heymanns Verlag 1988 ISBN 3 452 21203 3 Ernst Peter Heilein Die Bedeutung des Rechtsschutzes fur integrierte Halbleiterschaltkreise in der Praxis Prognose und Probleme eines sondergesetzlichen Schutzes Peter Lang 2003 ISBN 3 631 39812 3 Thomas Hoeren Der Schutz von Mikrochips in der Bundesrepublik Deutschland Kritische Uberlegungen zum Halbleiterschutzgesetz vom November 1987 1989 ISBN 3 89325 015 8 Guido Kucsko Geistiges Eigentum Manzsche Verlags und Universitatsbuchhandlung Wien 2003 ISBN 3 214 00423 9 S 988 1006 Leon Radomsky Sixteen Years After the Passage of the U S Semiconductor Chip Protection Act Is International Protection Working In Berkeley Technology Law Journal Band 15 2000 S 1049 1233 archive org PDF 283 kB abgerufen am 9 Juni 2009 Wei Shen Intellectual Property Protection of Layout Designs on Printed Circuit Boards From Comparative and Chinese Perspectives IIC 2014 6 Nicolas von Werdt Ausgewahlte Probleme zum Topographienschutz von mikroelektronischen Halbleitererzeugnissen Dissertation Zurich 1991 Schulthess Juristische Medien 1991 ISBN 3 7255 2933 7 Einzelnachweise Bearbeiten Vergleiche Artikel mask work in der englischen Wikipedia mask work Richtlinie 87 54 EWG PDF Halbleiterschutzgesetz ris bka BGBl Nr 428 1996 Halbleiterschutzgesetz Novelle 1996 Halbleiterschutz Verordnung ris bkaBitte den Hinweis zu Rechtsthemen beachten Abgerufen von https de wikipedia org w index php title Halbleiterschutzrecht amp oldid 225824880